宽离子束刻蚀是一种高质量的抛光制样方法。在微观结构表征中，尤其是在对样品平整度、残余应力、杂质含量等要求较高的显微分析测试中有着其他传统抛光方法无可比拟的优势。然而，抛光制备样品的过程中，发现利用现有的样品台和标准的装样方法，样品的断面抛光经常性地出现抛光区域反沉积，刻蚀抛光区域被掩盖的污染状态，对制样造成了很大的困扰，严重影响了离子束刻蚀的效果和应用。本案例对现有样品台进行适当的改造，可以有效避免反沉积的污染问题，大幅度提高制样成功率。
蒋蓉蓉,姚懿容,李明,管建敏,卢焕明.一种宽离子束刻蚀的防反沉积污染方法[J].科研仪器案例成果数据库,2022,(0).
