三维激光直写技术应用广泛，其在微纳米光学器件上的应用更是备受瞩目。如何利用现有设备条件制备出精度更好，品质更好的微纳光学器件也成为困扰设备用户的难点。简要分析如何降低德国Nanoscribe公司Photonic Professional型三维激光直写设备中椭圆形光斑对结构造成的影响及在特殊结构上制备复杂结构，必将对各位同行相关研究的开展大有裨益。
王娇.三维激光直写技术制备光学器件浅析[J].科研仪器案例成果数据库,2023,(0).
