基于消光椭偏原理的立式纳米薄膜厚度计量装置的研制
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    对消光式椭偏法测量的原理进行了介绍,包括光的偏振态、反射的多光束干涉原理、相位差的计算原理、菲涅尔公式等,最后得出薄膜厚度与各个参量之间的关系,主要参量包括入射角、起偏角和检偏角。纳米薄膜厚度计量装置主要负责对起偏角和检偏角的测量,在传统消光椭偏法中,整体结构采用卧式,这对晶圆的固定方式会有所限制,由此会导致晶圆的破损和污染,采用立式结构,能够使晶圆在测量中处于水平状态,实现无损检测,采用多入射角的测量方式,实现多角度测量和对薄膜厚度周期的测量。

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杜陈伙,施玉书,张树,胡佳成.基于消光椭偏原理的立式纳米薄膜厚度计量装置的研制[J].科研仪器案例成果数据库,2024,(0).

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  • 在线发布日期: 2024-12-20
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