本研究致力于探索一种易于实施的莫尔条纹频谱泄露抑制方法，旨在实现高精度光刻对准。为此，我们提出了一种的比现有窗函数性能更强的二维 Hanning 自卷积窗（2D-HSCW），研究了 1 到 4 阶 2D-HSCW 的主瓣和旁瓣特性。结果表明该方法成功地抑制了频谱泄露，从而显著提高了相位提取的精确度，实现了亚纳米级别的高精度光刻对准。
许非凡, 夏豪杰.基于莫尔条纹光刻对准中的二维 Hanning 自卷积窗[J].科研仪器案例成果数据库,2024,(0).
